Atomik Katman Kaplama tekniği, bir çeşit Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD) yöntemidir, reaksiyon tek bir atomik katmanın oluşmasından sonra doyuma ulaşıp durmaktadır. Bu sayede kaplanan kalınlık kontrolü, homojen bir kaplamanın gerçekleştirilmesi ve en zor geometrik şekilli yüzeylerin dahi konformal olarak kaplanması mümkün hale gelmektedir. ALD ile ilgili önemli birkaç özellik de aşağıda belirtilmiştir.
ALD prosesinde asla gaz fazında gerçekleşen reaksiyon olmaz.
Bütün reaksiyonların yüzeyde gerçekleşmesini sağlamak için sıralı proses uygulanır.
Bütün yüzeyler bir atomik katman kaplandıktan sonra reaksiyonlar durur.
Filmler stokiyometriktir.
Picosun firmasının web sitesinden de her konuda detaylı bilgi edinebilirsiniz www.picosun.com
|