Piocsun R-Serisi Atomik Layer Depozition sistemleri araştırma geliştirme çalışmaları ve de pilot üretim kullanımlarına uygun olarak tasarlanmıştır. Picosun R- Serisi sistemlerde kullanılan yenilikçi reaktör yapısı sayesinde 2" den 8" kadar (50 mm den 200 mm ye kadar) waferlar üzerinde çalışılabilmektedir. Reaksiyon chamberlar, işlemler süresince uygulanacak aşındırıcı kimyasalların olumsuz etkilerine dayanıklı olabilecek malzemelerden seçilerek üretilmiştir.
Bu sistemlere arzu edilen değişik precursor kaynaklar ilave edilebilir. Ekstra reaksiyon chamberı ve malzeme yükleyici opsiyonları ve de ozon taşıma sistemleri veya nitrojen jeneratörleri de isteğe bağlı olarak ilave edilebilir.
Picosun firmasının web sitesinden de her konuda detaylı bilgi edinebilirsiniz www.picosun.com