Maske Hizalama Cihazları, yarıiletken üretim süreçlerinin temelini oluşturan UV litografinin gerçekleştirilmesinde kullanılır. Bir entegre devrenin oluşturulması, MEMS yapısının üretilmesi, LED üretilmesi, Lab-on-a-chip yapılarının oluşturulması ve benzeri temel üretim süreçlerinde, oluşturulmak istenilen yapılar UV ışık kullanılarak wafer üzerine, maske hizalama cihazları kullanılarak transfer edilir. Bu yönteme UV litografi denilir. Maske hizalama cihazında üretilen ve kullanılan UV ışığın homojenitesi, süresi ve şiddeti son ürünün kalitesini ve yapılabilirliğini belirlediği için maske hizalama cihazı yarı iletken üretim ve silisyum tabanlı süreçlerin başarı ile gerçekleştirilebilmesi için temel başlangıç noktasını olarak kabul edilmektedir.
Richard Feynman'ın çığır açan konuşmasında, "there is plenty of room at the bottom" derken, litografi sürecini kullanarak yukarıdan aşağıya üretimle yapılabileceklerden bahsedilmiştir. Nanoteknolojinin gelişim süreci Moore's kanunları ile öngörülen ilerlemeler günümüzde kendi sınırlarını zorlamakla birlikte halen tüm üretim metotlarında UV litografi ve türevleri kullanılmaya devam etmektedir.
BNM Fabrika olarak, litografi konusundaki uzmanlığımızı, bu konuda uzmanlaşmış ve kendisini referansları ile ispatlamış Neutronix Inc. (ABD) firması ile birleştirerek, 2011 yılından itibaren Türkiye temsilciğini yürütmekteyiz. Ülkemizde gelişmekte olan ve yatırım çeken mikro - nanoteknoloji üretim ve araştırma geliştirmesine katkı sağlayacak doğru bir tedarikçiyi bünyemize katmış olmanın mutluluğunu yaşamaktayız.
Neutronix firması ile detaylı bilgilere firmanın www.neutronixinc.com adresinden ulaşılabilir.